IC制造中平坦化技术的性能与分析

表面平整化技术是半导体工业的关键技术,在一定程度上制约着半导体芯片集成技术的发展,针对多层立体布线的IC全局平坦化技术,介绍了代表当今平整化技术及其未来的发展方向,其中一些技术会取代传统的CMP技术而成为IC产业的主导技术之一;叙述了超大规模集成电路(ULSI)的发展对全局平整化的具体要求;对传统的CMP技术的特点进行了分析;并论述了当今主流的IC平整化技术的原理、性能以及未来的发展方向。     

广播内存实时网节点卡的LabVIEW驱动开发

广播内存实时网技术是一种高效的网络数据传输技术。本文向读者介绍了LabVIEW环境下利用CIN技术的网络内存节点卡驱动模块的设计方法。     

CAXA电子图板下CAPP输出系统

工艺卡片的输出是CAPP系统开发的难点和重点之一,是连接产品设计和生产制造的桥梁,利用VC 6.0编程语言在CAXA电子图板中定制工艺卡片的关键技术和方法,并利用ADO技术实现了工艺卡片与CAPP系统的工艺数据库间的数据通讯,对相关工艺卡片输出系统的开发是一种启示和借鉴.     

IC6合金动态拉伸过程原位观测

为了研究IC6合金的断裂机制,用背散射电子图像原位观察该合金的动态拉伸过程.结果表明IC6合金中的M6C碳化物是脆性相,在受力时容易开裂.在裂纹已经产生的情况下,大量M6C碳化物会加速裂纹的扩展.     

微机测控系统输入输出接口智能故障诊断

介绍了用于对微机测控系统输入接口板、输出接口板测试硬件系统的构成,设计了接口卡电路.针对两块电路板,提出了对数字电路板的测试和故障诊断分四个层次,即整板级、功能模块级、单片级和功能输出点级的思想,采取了对功能输出点进行编码的方法建立数字电路板测试的标准知识库,提出了使用功能标志矩阵的方法对各个层次的测试结果进行存储的方法,并根据各个层次测试的关系及相应功能标志矩阵的关系建立了智能化故障诊断程序.     

防护涂层对Ni_3Al基合金IC6AE微观组织和抗腐蚀性能的影响

采用料浆法和粉末包埋渗法在Ni3Al基等轴晶合金IC6AE上分别制备了Al-Si和NiCr-CrAl涂层,并对Al-Si和NiCr-CrAl涂层及不加涂层的IC6AE合金三种试样进行900℃/20h,40h,60h,80h,100h的涂盐(5wt%NaCl 95wt%Na2SO4)抗腐蚀性能试验.试验结果表明,与Al-Si涂层试样和无涂层IC6AE合金试样相比,NiCr-CrAl涂层试样表现出最好的抗热腐蚀性能;与无涂层的IC6AE合金试样相比,Al-Si涂层试样的抗腐蚀性没有明显的改善.微观结构分析表明,无涂层的IC6AE合金在900℃时经过几个小时后就遭到了严重的腐蚀破坏.涂盐腐蚀100h后,表面生成了一层主要由Mo,Ni的氧化物组成的多孔无保护性的疏松层.对于Al-Si涂层的试样,900℃/100h腐蚀后试样表面生成了大量Mo,Ni的氧化物,此外还有少量Al2O3及NiAl3相,这些相对样品有一定的保护作用.涂覆NiCr-CrAl涂层的样品经900℃/100h腐蚀后,试样表面主要生成了连续致密的Al2O3及NiAl2O4层,并有少量的Mo,Ni的氧化物,因此对合金有着较好的保护作用,抗腐蚀性能得到了显著改善.     

一种新型结构的网卡研究与驱动设计

Freescale的QorIQ系列网络通信产品中使用的高性能数据通道加速结构DPAA使网卡工作时硬件结构和驱动程序更加复杂.以P4080处理器为例研究了DPAA硬件结构,介绍了模块Buffer Manager、Queue Manager和Frame Manager的主要功能和配置使用方法.设计实现了网卡及其依赖硬件模块的设备驱动程序,阐述了硬件初始化、数据发送、数据接收、中断响应过程中驱动软件的主要处理流程.最后总结了已完成工作和驱动的扩展性.     

基于WDM的一种多用途卡驱动程序及其动态链接库开发

在工业测控中,串行通信设备、ADC/DAC设备随处可见,这些设备常常需要跟主机相连,组成一个PC机和工业电子设备构成的监控系统,而普通PC机所能提供IO接口的数量和种类又非常有限.因此,经常需要对PC机IO口进行扩展.以某工程项目中的一块基于ISA总线的自制多用途卡为背景,从工程的角度阐述了WDM模式下驱动程序及其动态链接库的开发.     

以数字化工卡为核心技术的修理新模式探索

针对航空修理企业和现状,提出以数字化工卡为核心的修理新模式,阐述了数字化工卡的概念,描述了以数字化工卡为核心的修理模型,重点针对数字化工卡驱动修理过程中各信息系统要素的修理模式进行了分析和探索,为从信息化层面有效整合航修企业各项资源,搭建快捷、高效的航空装备修理平台,加快转变航空装备修理保障能力生成模式提供了有效途径。     

Keck observations of ROSAT ultra-luminous X-ray source candidates

We present results of optical follow-up observations of candidate ultra-luminous X-ray sources (ULXs). Using Keck optical spectroscopy, 17 of the candidates from the Colbert and Ptak [Colbert, E.J.M., Ptak, A.F. A catalog of candidate intermediate-luminosity X-ray objects. ApJS 143, 25–45, 2002] catalog have been identified; this is one of the largest sets of optical identifications of such objects thus far. Fifteen are background active galactic nuclei (AGN); two are foreground stars in our Galaxy. These findings are consistent with background and foreground object expectations, as derived from log N–log S relations. Also, the results are briefly discussed in terms of the spiral-galaxy/ULX connection.